• Rennes
  • CDD
  • Temps complet
  • Rémunération selon profil
INSA - Institut National des Sciences Appliquées

Ingénieur en procédés de micro-nano fabrication plateforme nanoRennes H/F

INSA - Institut National des Sciences Appliquées

Description des missions

Les missions principales concernent la fabrication et le développement de procédés au sein d’une salle blanche (nanoRennes) disposant de plusieurs équipements de photolithographie, de bâtis de dépôt et de gravure. Cette plateforme technologique, hébergée au sein du département OHM de l’ Institut FOTON, est localisé à l’INSA Rennes. Ce poste d’ingénieur d’étude s’inscrit dans le cadre de d’un projet ANR intitulé FBG-DETECT. Il vise à réaliser des photodiodes accordables dans le proche infrarouge afin de démontrer un nouveau système d'interrogation pour les capteurs optiques à réseau de Bragg (FBG) dédiés à la mesure d'ondes acoustiques. Les composants clés de ces systèmes sont des photodiodes accordables intégrant des microcellules à cristal liquide en polymère sur des photodiodes en semiconducteurs III-V (InGaAs/InP).

Profil recherché

Les missions principales concernent la fabrication et le développement de procédés au sein d’une salle blanche (nanoRennes) disposant de plusieurs équipements de photolithographie,  de bâtis de dépôt et de gravure. Cette plateforme technologique, hébergée au sein du département OHM de l’ Institut FOTON, est localisé à l’INSA Rennes. Ce poste d’ingénieur d’étude s’inscrit dans le cadre de d’un projet ANR intitulé FBG-DETECT. Il vise à réaliser des photodiodes accordables dans le proche infrarouge afin de démontrer un nouveau système d'interrogation pour les capteurs optiques à réseau de Bragg (FBG) dédiés à la mesure d'ondes acoustiques. Les composants clés de ces systèmes sont des photodiodes accordables intégrant des microcellules à cristal liquide en polymère sur des photodiodes en semiconducteurs III-V (InGaAs/InP). Le département OHM de l’Institut FOTON est reconnu pour son expertise sur la croissance, la caractérisation des matériaux et composants optoélectroniques III-V, et sur ses compétences en termes de micro-nanofabrication. Le travail proposé reposera avant tout sur une forte implication en salle blanche consistant en la mise au point de procédés pour la fabrication des photodiodes: Réalisation des étapes de photolithographie, étape de dépôt par des technique CVD ou PVD, étapes de gravure par voie humide ou sèche. La personne recrutée sera également amenée à effectuer les premières caractérisations électro-optiques des composants qu’elle aura réalisés avant fourniture aux autres membres du projet. Le contrat proposé sera sur une durée de 14 mois avec une très forte probabilité de prolongation supérieure à un an via d’autres projets hébergés par le laboratoire.

Date limite de candidature : 18 octobre 2026